Elemento de projeção (DOE) circular de 1064 nm com formato de chapéu de aba reta | Ponto plano de Φ50 µm para lasers infravermelhos (IR)
Elemento de projeção (DOE) circular de 1064 nm com formato de chapéu de aba reta | Ponto plano de Φ50 µm para lasers infravermelhos (IR)
Uma distribuição específica de intensidade luminosa é produzida em um plano escolhido (normalmente localizado no infinito ou no plano focal da lente) por meio de efeitos de interferência. Isso é possível graças à manipulação das ordens de difração e da distância do objeto. O mecanismo subjacente começa com a superfície microestruturada do elemento óptico difrativo (DOE), que altera a fase transmitida do feixe de laser, aplicando, assim, modulação de fase à frente de onda incidente e dispersando-a em múltiplas ordens.
Com um diâmetro externo de Φ25,4 mm (1 polegada) e uma abertura livre de Φ12 mm, este DOE de alto desempenho foi projetado para encaixar em montagens optomecânicas padrão sem modificações. Quando usado com lasers verdes de 532 nm, ele remodela o feixe gaussiano bruto em um círculo de topo plano de Φ60 µm, caracterizado por bordas nítidas, irradiância uniforme e picos de intensidade mínimos.
A estrutura de superfície de 16 níveis proporciona uma eficiência de difração total superior a 90% e uma uniformidade superior a 90% RMS, tornando-a ideal para o processamento de precisão de filmes finos, micromecanização e produção de dispositivos médicos.
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